Çin’in Fabrika Boyutundaki Litografi Cihazı: ASML Tekeline Karşı LDP Hamlesi ve Yarı İletken Egemenliği
Küresel yarı iletken pazarında ASML’nin tekelinde olan EUV litografi teknolojisine karşı Çin’in geliştirdiği LDP tabanlı alternatif litografi sistemi; çalışma prensipleri, plazma fiziği, Mo/Si optik aynaları, helyum krizinin etkileri ve stratejik çip üretimi bağlamında teknik olarak inceleniyor.